用于热光光开关的聚合物薄膜波导制作

摘要

本文着重介绍了聚合物热光开关制作中的关键技术:聚合物薄膜平面波导的制作，主要内容如下:（1） 介绍了聚酰亚胺材料的合成原理，并详细描述了材料的制备过程。（2） 通过旋涂法制备了用于波导制作的高性能聚合物薄膜。讨论了部分工艺参数，如溶液浓度、旋涂转速、溶剂挥发性、吸水性等对薄膜质量的影响。分析了可能造成薄膜缺陷的原因，并对薄膜的性能如薄膜厚度、折射率、红外吸收特性和表面轮廓进行了测试以优化旋涂工艺。（3） 通过磁控溅射在制得的聚合物薄膜上沉积了金属铝层，简单介绍了磁控溅射的工作原理。（4） 通过光刻在溅射出的铝层上制作了微图形，铝层用90℃的浓磷酸腐蚀。详细介绍了整个工艺过程，并分析了可能导致缺陷的各种因素，以提高光刻精度。（5） 利用ICP刻蚀技术在聚合物薄膜上制作了聚合物平面波导，采用氧气作为刻蚀气体，铝层作为金属掩膜层。分析了刻蚀过程中各工艺因素的影响，利用台阶仪对制得的聚合物波导进行了测试，并介绍了ICP刻蚀的基本原理和我们使用的ICP-2B刻蚀设备的结构。本文详细介绍了用于热光光开关的聚合物薄膜平面波导的制作工艺，并通过大量的实验对其进行了分析和优化，最终制得了适合热光光开关制作的聚合物平面波导。为今后进一步摸索热光光开关制作工艺打下了坚实的基础，具有极高的实用价值。

目录

文摘

英文文摘

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1 绪 论

2 聚合物材料的合成

3 聚合物薄膜制备工艺

4 金属掩膜磁控溅射

5 湿法光刻：微图形制作

6 电感耦合等离子(ICP)刻蚀

7 全文总结

致 谢

参考文献

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