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我国高技术专利法律保护初探——以信息技术为视角

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导 论

一、高技术专利法律保护概述

(一)高技术的定义及相关内容

(二)我国高技术领域专利法律保护的重要性

二、国内外高技术专利法律保护现状

(一)我国高技术专利法律保护现状1. 我国高技术专利法律保护现状概述

(二)国外高技术专利法律保护现状及对我国的启示

三、我国高技术专利保护存在的主要问题

(一)案例分析:对“苹果皮520”的思考

(二)专利法的滞后性

(三)商业秘密权急需确立

(四)反不正当竞争法的滞后性

四、我国高技术专利保护的法律完善

(一)专利法的完善

(二)制定统一的商业秘密法

(三)将反不正当竞争法纳入对高技术的保护

结 论

致谢

参考文献

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摘要

高技术在当今社会的发展中发挥着不可替代的作用,各国的综合国力的竞争越来越体现在高技术的竞争上。现在已进入知识经济时代,信息技术的发展占据了高技术的大部分领域,而且专利制度在高技术的发展过程中发挥着不可估量的作用。因此,世界各国都很注重以信息技术为代表的高技术的发展,并不断完善相关的法律保护制度来促进技术创新。本文以信息技术为视角,分析了我国高技术专利法律保护中出现的问题,并提出相关的建议来完善我国高技术专利法律保护制度。
  文章共分为四章。第一章是高技术专利法律保护概况,本章主要包括两部分,第一部分对高技术的概念及相关内容进行阐述,笔者认为高技术是指处在技术前沿的,与知识产权制度密切相关的,高投入性、高渗透性、高营利性、高风险性、高智力性、高竞争性的新技术群。高技术与普通技术相比,有其独特之处。第二部分阐述了我国以信息技术为代表的高技术领域专利法律保护的重要性。
  第二章阐述国内外高技术专利保护现状。第一部分介绍了我国高技术专利法律保护现状;第二部分介绍了美国和日本两个国家的高技术专利法律保护现状,分析了美国和日本在高技术专利法律保护方面值得我国借鉴之处。
  第三章阐述了我国高技术专利法律保护中存在的问题。首先,通过对“苹果皮520”案例的分析,得出我国高技术专利法律保护方面存在问题的关键在于法律制度的滞后性。然后具体分析我国专利法等法律在我国高技术专利保护中存在的不足之处,分别从专利权获得的实质条件、程序条件、保护周期和专利侵权等四个方面进行阐述。
  第四章对我国高技术专利保护的法律完善进行了阐述。笔者认为,首先要完善我国专利法中关于高技术专利保护制度,分别从扩大专利保护范围、简化专利审核程序、增加专利权保护周期的弹性规定及完善专利侵权保护的规定等几个方面进行阐述。最后,笔者认为制定统一的商业秘密法,同时将反不正当竞争法纳入高技术专利法律保护体系,是十分必要的。

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