声明
1 绪论
1.1 NH3检测应用背景与发展方向
1.2电阻型半导体气体传感器介绍
1.3 各类室温气敏材料的研究现状
1.3.1 纳米尺寸金属氧化物
1.3.2 导电聚合物
1.3.3 碳基纳米材料
1.4 层状过渡金属硫化物研究现状
1.4.1 层状过渡金属硫化物结构改性和复合修饰方法
1.4.2 二维TMDs薄片室温NH3气体检测研究现状
1.5 层状WS2材料研究概括
1.6 本文选题思路及主要研究内容
2 实验试剂、仪器与方法
2.1 材料与仪器
2.1.1 原材料与试剂
2.1.2 实验仪器
2.2 总体实验设计路线
2.3实验涉及的各类表征手段
2.3.1 荧光光学显微镜
2.3.2 场发射扫描电子显微镜
2.3.3 原子力显微镜
2.3.4 透射电子显微镜
2.3.5 X射线衍射仪
2.3.6 X射线光电子能谱
2.3.7激光共聚焦拉曼光谱仪(Laser Raman Spectrometer，Raman)和光致发光谱 (Photoluminescence，PL)
2.3.8紫外可见分光光度计 (UV-Visible Spectrometer，UV-Vis)
2.3.9 扫描透射电子显微镜
2.4 气敏性能表征
2.4.1 室温气敏材料性能评价指标
2.4.2 气体传感器的制备与测试方法
3 层状WS2室温表面气体吸附特性研究
3.1 引言
3.2 WS2层状材料结构表征
3.3 WS2室温NH3气敏机理研究
3.3.1 厚层WS2材料室温NH3气敏测试
3.3.2 WS2表面气体吸附机理
3.4 本章小结
4 WS2单层结构制备及其室温NH3气敏回复性调控
4.1引言
4.2 WS2单层结构的制备及表征
4.2.1 CVD法制备单层WS2
4.2.2 单层WS2结构表征
4.2.3单层WS2室温NH3气敏吸附特性表征
4.3 室温下不同层厚WS2与NH3吸脱附作用机理分析
4.3.1 第一性原理计算
4.3.2 不同层数WS2与NH3作用吸附机理
4.4 本章小结
5 富缺陷二维WS2薄片规模化制备及其室温NH3气敏吸附研究
5.1 引言
5.2 二维WS2薄片的制备及表征
5.2.1 不同层数WS2减薄方法及器件制备
5.2.2 锂离子插层法减薄WS2作用机理
5.2.3 不同层数WS2结构与性能表征
5.3 插层法制备二维WS2片及其气敏性能和作用机理分析
5.3.1单层WS2室温NH3气敏性能与作用机理
5.3.2 WS2层数与室温NH3气敏回复性的关系
5.4 本章小结
6 二维WS2薄片表面复合TiO2量子点及其室温NH3气敏性能研究
6.1引言
6.2 TiO2 QDs / WS2纳米复合物的制备及表征
6.2.1 TiO2 QDs / WS2纳米复合方法及器件制备
6.2.2 TiO2 QDs / WS2纳米复合物结构与性能表征
6.3 TiO2 QDs / WS2纳米复合物室温气敏性能研究及机理分析
6.3.1 TiO2 QDs / WS2纳米复合物室温气敏性能测试
6.3.2 TiO2 QDs / WS2纳米复合物气敏机理
6.3.3 TiO2 QDs / WS2纳米复合物稳定性验证
6.4 本章小结
7 全文总结
7.1 主要结论
7.2 本文创新之处
7.3相关工作展望
致谢
参考文献
附录1 攻读博士学位期间撰写与发表的论文
附录2 液相混合法生长制备铌掺杂单层WS2
