钛合金表面微弧氧化与溶胶凝胶法制备高发射率涂层
PREPARATION OF COATING OF HIGH EMISSITY ON TITANIUM SURFACE BY MICRO-ARC OXIDATION AND SOL-GEL
摘 要
Abstract
第1章 绪 论
1.1 课题背景和研究意义
1.2高发射率辐射材料的应用及研究概况
1.2.1 红外辐射基本概念
1.2.2高发射率材料的研究现状
1.2.3高发射率材料的应用现状
1.3 高发射率涂层概况
1.3.1高发射率涂层的研究现状
1.3.2高发射率涂层的制备方法及存在问题
1.3.3高发射率涂层的影响因素
1.3.4提高涂层发射率的途径
1.4 微弧氧化技术研究概况
1.4.1微弧氧化技术简介
1.4.2微弧氧化技术的特点及优势
1.5本课题主要研究内容
第2章 实验材料及研究方法
2.1 实验材料及药品
2.2 实验设备
2.2.1微弧氧化装置
2.2.2微弧氧化电源
2.2.3线切割机
2.3试样的制备
2.4膜层的分析表征
2.4.1微弧氧化膜层厚度的测试
2.4.2 X射线衍射仪(XRD)测试分析
2.4.3扫描电镜(SEM)表面形貌观察
2.4.4膜层的能谱分析
2.5膜层的性能测试分析
2.5.1膜层的剪切强度分析
2.5.2膜层的发射率测试
第3章 钛合金微弧氧化膜层的制备及研究
3.1钛合金微弧氧化涂层制备
3.2微弧氧化陶瓷膜层微观组织及表面形貌
3.2.1微弧氧化陶瓷膜层的物相分析
3.2.2微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌分析
3.3微弧氧化陶瓷膜层性能分析
3.3.1微弧氧化陶瓷膜层的结合强度
3.3.2微弧氧化陶瓷膜层的发射率测试
3.4本章小结
第4章 夊合膜层的制备及研究
4.1含过渡金属的溶胶及CCTO溶胶粉体制备及研究
4.1.1 溶胶粉体的制备
4.1.2 溶胶粉体的物相分析
4.1.3 溶胶粉体的红外谱图分析
4.2夊合膜层制备方法及分析
4.2.1 夊合膜层的制备方法
4.2.2 夊合膜层的物相分析
4.2.3 夊合膜层的表面形貌
4.3夊合膜层的性能分析
4.3.1 夊合膜层的剪切强度测试
4.3.2红外涂层剪切强度分析
4.3.3 夊合膜层的发射率测试
4.4红外涂层辐射机理分析
4.4.1 影响红外涂层发射率因素的理论分析
4.4.2 夊合膜层声子辐射机制
4.5本章小结
结 论
参考文献
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致 谢