声明
摘要
1．1引言
1．2二氧化铪的基本性质及应用前景
1．3二氧化铪的生长技术
1．4论文的研究内容及章节安排
第二章HfO2薄膜的X射线光电子能谱分析
2．1引言
2．3 X射线光电子能谱基本原理
2．4 HfO2／Si样品的X射线光电子能谱分析
2．5 HfO2薄膜的光电子能量损失谱
2．6本章小结
第三章HfO2薄膜的高分辨X光衍射分析
3．1引言
3．2实验仪器介绍
3．3高分辨率x射线衍射谱基本原理
3．4 HfO2／Si样品的掠入射X射线衍射分析
3．5本章小结
第四章HfO2薄膜椭圆偏振光谱研究
4．1引言
4．2实验仪器介绍
4．3椭圆偏振光谱基本原理
4．4 HfO2／Si样品的椭圆偏振光谱测量与分析
4．5本章小结
第五章HfO2薄膜的卢瑟福背散射分析
5．1引言
5．2卢瑟福背散射谱基本原理
5．3 HfO2／Si样品的卢瑟福背散射能谱测量与分析
5．4本章小结
6．1全文总结
6．2研究展望
参考文献
致谢
攻读硕士期间已发表的论文及研究成果
