摘要
第一章 绪论
1.1 本课题的研究背景
1.2 掩膜及无掩膜光刻技术发展状况
1.3 毛化技术发展状况
1.4 本文研究的内容
第二章 DMD无掩膜数字光刻系统简介
2.1 光刻系统光源研究
2.1.1 紫外光源
2.1.2 光源均匀性、部分相干性
2.2 空间光调制器件DMD
2.2.1 DMD简介
2.2.2 黑栅效应
2.3 本章小结
第三章 分辨率为2μm的数字光刻投影物镜设计
3.1 前言
3.2 投影物镜结构选择方法及具体参数确定
3.3 初级像差理论及像质评价方法
3.4 优化
3.4.1 控制操作符选择
3.4.2 材料选择
3.5 结果分析
3.5.1 波像差
3.5.2 调制MTF
3.5.3 场曲和畸变
3.5.4 公差分析
3.6 本章小结
第四章 激光毛化系统简介
4.1 前言
4.2 固态脉冲YAG激光毛化系统
4.3 声光调Q技术
4.4 本章小结
第五章 用于毛化的YAG激光器调Q方式改进研究
5.1 前言
5.2 改进固态脉冲YAG激光研究
5.2.1 稳定性研究
5.2.2 机械调Q技术
5.3 机械调Q实验及毛化效果分析
5.4 本章小结
总结与展望
参考文献
攻读学位期间发表的论文及申请的专利
声明
致谢