缩略语表
第一章 绪论
1.1.前言
1.2.1. 分子印迹技术简介
1.2.2. 分子印迹技术的基本原理
1.2.3. 分子印迹材料的制备方法
1.2.4. 分子印迹聚合物的应用
1.2.5. 分子印迹技术的不足和展望
1.3.1. 分子印迹电化学传感器简介
1.3.2. 分子印迹敏感膜的制备方法
1.3.3. 分子印迹电化学传感器类型及应用
1.4.1. 概述
1.4.2. 苯并咪唑类杀菌剂的危害
1.4.3. 苯并咪唑类杀菌剂检测方法研究进展
1.5.1. 研究意义
1.5.2. 研究技术路线
第二章 噻苯咪唑分子印迹电化学传感器制备与表征
2.1.前言
2.2.1. 实验试剂
2.2.2. 实验仪器
2.2.3. 氧化石墨烯修饰玻碳电极（GO-GCE）的制备
2.2.4. 电还原氧化石墨烯修饰玻碳电极（ERGO-GCE）的制
2.2.5. 噻苯咪唑分子印迹传感器的制备
2.2.6. 噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的表征
2.3.结果与讨论
2.3.1. 电还原氧化石墨烯过程分析
2.3.2. GO和ERGO红外光谱分析
2.3.3. 电聚合制备TBZ分子印迹膜过程分析
2.3.4. 电聚合膜厚度的计算
2.3.5. 电聚合条件的优化
2.3.6. 不同电极电化学性能表征
第三章 噻苯咪唑分子印迹电化学传感器的性能与应用
3.1.前言
3.2.1. 实验试剂
3.2.2. 实验仪器
3.2.3. 标准曲线的绘制
3.2.4. 印迹传感器性能检测
3.2.5. 实际样品的前处理
3.3.结果与讨论
3.3.1. 标准曲线分析
3.3.2. 电印迹极与非印迹电极的比较
3.3.3. 印迹电极的重现性与稳定性
3.3.4. 实际样品的测定
3.3.5. 与现有噻苯咪唑传感器检测方法比较
第四章 总结
参考文献
附录 攻读硕士期间的主要成果
声明
致谢
