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第一章概述
§1.1离子与固体及其表面碰撞研究的历史背景
§1.2高电荷态离子与固体表面的相互作用
§1.3离子诱发内壳层x射线的产生
§1.4本工作的研究的背景和动机
第二章本工作所涉及的模型理论
§2.1经典过垒模型
§2.2二体碰撞近似理论
第三章实验装置
§3.1电子回旋共振离子源(ECRIS)
§3.2束流传输
§3.3靶室和样品
§3.4探测和获取系统
第四章 高电荷态Ar离子与不同金属表面相互作用研究
§4.1亚稳态Ar16+与Mo和Be相互作用过程中Ar离子的x射线发射谱
§4.2模型计算
§4.3亚稳态Ar16+离子在金属表面中和过程
§4.4结论
第五章 131Xeq+(q=25-30)碰撞诱发的金属内壳层的x射线发射
§5.1Mo靶原子L壳层x射线产额
§5.2 靶原子L壳层x射线产生截面以及电离截面
§5.3实验结果与库仑偏转修正下的二体碰撞理论的比较
§5.4结论
第六章结论
参考文献
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致谢
附件高电荷态离子与绝缘体微孔膜的相互作用