镍钨合金及其合镀层的电沉积和结构与性能研究

摘要

运用循环伏安、阶跃电位、XRD等方法研究Ni-W合金电沉积层的同理、结构与性能的关系.探索镀液组成及沉积条件对Ni-W-SiO<,2>、Ni-W-SiC复合电沉积支的结构和性能的影响,采用XRD、XPS等方法分析复合沉积层的结构和组分存在的状态.

目录

文摘

英文文摘

第一章绪论

§1.1前言

§1.2代铬镀层得研究概况

§1.3复合镀得研究概况

§1.4复合电沉积得研究概况

§1.5本文的主要研究内容和基本思路

参考文献

第二章实验方法

§2.1实验原理

§2.1.1 X-射线衍射法

§2.1.2电结晶理论简介

§2.1.3 X-射线电子能谱

§2.2实验条件

§2.2.1试剂

§2.2.2电化学实验

§2.2.3 XRD实验

§2.2.4镀层显微硬度的测定

§2.2.5镀层成分的测定

参考文献

第三章镍钨合金电沉积研究

§3.1前言

§3.2实验方法

§3.3结果与讨论

§3.3.1电流密度变化对电流效率及镀层组成的影响

§3.3.2 Ni-W合金电极过程的伏安行为

§3.3.3 Ni-W合金电结晶过程的成核机理

§3.3.4 Ni-W合金镀层的XRD结果

§3.3.5 Ni-W合金电沉积层的形貌

§3.3.6对合金显微硬度的影响

§3.4本章小结

参考文献

第四章Ni-W-SiO2复合电沉积层的研究

§4.1前言

§4.2实验条件

§4.2.1镀液组成及实验条件

§4.2.2镀层成分分析

§4.3结果与讨论

§4.3.1实验条件对Ni-W-SiO2复合电沉积的影响

§4.3.2Ni-W-SiO2复合电沉积层组成

§4.3.3 Ni-W-SiO2复合电沉积的电流效率

§4.3.4 Ni-W-SiO2复合电沉积层的结构

§4.3.5 Ni-W-SiO2复合电沉积层的显微硬度

§4.3.6复合镀层的耐磨性和耐蚀性

§4.3.7复合电沉积层的XPS分析

§4.4本章小结

参考文献

第五章Ni-W-SiC复合电沉积层的研究

§5.1前言

§5.2实验条件

§5.3结果与讨论

§5.3.1 Ni-W-SiC复合电沉积层组成和电流效率

§5.3.2 Ni-W-SiC复合电沉积层的结构

§5.3.3 Ni-W-SiC复合电沉积层的硬度、耐磨性和耐蚀性

5.3.4复合电沉积层的XPS分析

§5.4本章小结

参考文献

致谢