Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800-211, Shanghai 201800, P. R. China;
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800-211, Shanghai 201800, P. R. China;
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800-211, Shanghai 201800, P. R. China;
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800-211, Shanghai 201800, P. R. China;
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800-211, Shanghai 201800, P. R. China;
机译:激光,硼,碳化硼和氮化硼靶产生的等离子体羽的XUV光谱研究
机译:自由电子激光FLASH产生的热致密铝等离子体的XUV光谱表征
机译:勘误:基于光谱方法的ICP炬在常压下产生的氩等离子体和氩铜等离子体的比较研究(Plasma Sources Science and Technology(2011)20(045004))
机译:硅和铜等离子体的XUV光谱研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:有氧铜的动力学和光谱研究(II) - 催化的芳基酯和洞察芳转移金属化铜的甲氧基化(II)
机译:来自激光产生的等离子体的XUV和软X射线辐射作为实验室光谱来源