The Dept. Information Science Jiangsu Polytechnic University Jiangsu Changzhou 213016, China;
SiO_2 electret; plasma; ion implantation; charge storage; stability;
机译:等离子处理后聚四氟乙烯(PTFE)特氟龙薄膜中电晕电荷稳定机理的研究
机译:离子注入后等离子体增强化学气相沉积SiO_2薄膜诱导量子阱混合
机译:铟离子注入过程中注入铟的SiO_2薄膜的催化性能与膜-衬底温度的关系
机译:通过等离子体处理和离子植入提高SiO_2薄膜的电荷稳定性
机译:在等离子体处理过程中进行等离子体注入和栅极氧化物充电的研究。
机译:合成的电荷可逆聚合物用于快速完全植入多层微针药物膜以增强经皮疫苗接种
机译:含有硅纳米晶的SiO_2薄膜中的局部电荷注入
机译:等离子体处理聚合物介电薄膜以改善电容储能