Thin films Laboratory, Department of Physics, National Institute of Technology, Tiruchirappalli - 620 015, India;
thin films; transition metals; DMS; ZnO; X-ray diffraction; RF sputtering;
机译:后退火对磁控溅射制备的基于ZnO薄膜的声表面波器件的影响
机译:在PDLC器件的PET基板上室温RF磁控管溅射沉积氢化Ga掺杂的ZnO薄膜
机译:高频表面声波器件的射频磁控溅射在具有Al_2O_3缓冲层的SiO_2 / Si衬底上沉积ZnO薄膜
机译:ZnO基稀磁半导体薄膜通过RF磁控溅射用于自旋光子器件
机译:磁性石榴石薄膜的RF溅射制造和一维磁性光子晶体波导器件的仿真模型。
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:RF磁控溅射合成的纳米结构ZnO半导体薄膜的光学和表面性质