IBM Research GmbH, Zurich Research Laboratory, 8803 Rüschlikon, Switzerland;
机译:校正项存在下边界散射对同位素纯LiF晶体导热系数的作用
机译:通过时间分辨X射线散射测量和分析同位素控制的硅层的热导率
机译:常规声子-声子散射过程对同位素纯硅晶体最大热导率的影响
机译:量子校正和同位素散射对硅热性能的影响
机译:同位素在气体-表面相互作用中的作用:氘从铜(100)和钯(111)散射的量子态解析研究。
机译:声子的量子统计对硅和锗纳米带热导率的影响
机译:相对论量子校正对磁场下三维球面半导体量子点热特性的影响
机译:热历史对热生长二氧化硅,siO2超薄膜应力相关特性的影响