Materials Science Institute, University of technology, Germany;
机译:TiAln,TiCrN和N-TiAln /α-Si_3N_4薄膜沉积阴极电弧物理气相的微观结构和磨损
机译:TiAln,TiCrn和NTiAlnαsi3N4膜沉积阴极电弧物理气相的微观结构和磨损
机译:Taguchi法优化电弧离子镀TiAlN膜的附着强度
机译:结构设计薄壁薄膜磨损优化
机译:飞秒脉冲激光沉积铝镁硼化物基薄膜的耐磨性,润滑性和附着力。
机译:Taguchi法优化电弧离子镀TiAlN膜的附着强度
机译:Taguchi法优化电弧离子镀TiAlN膜的附着强度
机译:等离子体沉积的薄氮化硅薄膜在700℃的温度下的粘附,摩擦和磨损