IMEC, divison MCP, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
机译:等离子体辅助反应式脉冲直流磁控溅射低温形成c轴取向氮化铝薄膜
机译:脉冲直流反应溅射对氮化蓝宝石衬底上823K沉积AlN膜的溅射压力和结晶品质的影响。
机译:脉冲直流磁控管溅射压电薄膜氮化铝-工艺和压电性能
机译:通过反应脉冲DC磁控溅射振动能量收割机制备氮化铝膜的制造
机译:脉冲直流反应磁控管溅射氮化铝薄膜。
机译:用于压电应用的氮化铝(002)薄膜的反应溅射:综述
机译:脉冲DC磁控溅射沉积的氮化铝薄膜的结构和光学性质
机译:用脉冲气体法沉积铝/氮化铝涂层溅射的表征