Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
机译:多重内反射几何学中红外表面吸收光谱法对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察红外抗体对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察
机译:在硅表面上反射地质素 - 原位硅表面蚀刻工艺中的电化学蚀刻过程的原位观察硅表面蚀刻的电化学蚀刻工艺
机译:硅基板上阳极氧化铝多孔膜的形成工艺研究
机译:用红外吸收光谱法出于原位观察Si衬底上阳极多孔氧化铝的形成过程
机译:阳极氧化工艺控制参数对阳极氧化铝多孔膜力学性能的影响。
机译:增强型SERS的金涂层超薄阳极多孔氧化铝基底的制备
机译:通过细胞色素C氧化酶与电化学诱导的氧化还原过程相关的构象转变,以及时间分辨的2d表面增强的红外吸收光谱(tr-2d-Seiras)
机译:离子传输效应在原位变换红外反射吸收光谱中的应用。 (重新公布新的可用性信息)。