Materials Science and Engineering, University of Florida, Gainesville, FL 32611;
机译:主动表面氮化对UV辅助CVD沉积高介电常数薄膜性能的影响
机译:氩准分子源对高k金属氧化物薄膜的氮化和再氧化
机译:低温氧化films薄膜栅氧化物泄漏电流的研究。
机译:紫外辅助氧化和氮化铪金属膜氮化效应的研究
机译:and和ha铝合金的紫外线辅助氧化和氮化作为金属氧化物半导体应用的潜在栅极电介质。
机译:利用透射菊池衍射的Si和Zr掺杂氧化Ha薄膜和集成FeFET的结构和电学比较
机译:氧非化学计量对氧化f薄膜结构,稳定性和性能影响的研究