Institut fuer Mikroelektronik und Festkoerperelektronik Technische Universitaet Berlin Jebensstr.1, D-10623 Berlin, Germany;
机译:空位和自填隙对浮区硅晶体中替代过渡金属缺陷形成的影响
机译:使用浮区晶体生长作为工具的硅缺陷和杂质研究
机译:同步辐射X射线技术在分析具有扩展缺陷的太阳能电池和单晶硅中过渡金属的行为中的应用
机译:硅浮区晶体中替代过渡金属缺陷分布的分析近似
机译:氮化硅和硬质碳化钨工具上的微波辅助CVD金刚石涂层的分析和实验研究以及几种过渡金属上多晶金刚石的生长
机译:确定替代氧作为单层过渡金属二卤化金属中的高产点缺陷
机译:间质钢和其他过渡金属点缺陷的重组活性在P-和N型晶体硅中的缺陷
机译:硅浮区晶体生长作为研究缺陷和杂质的工具