A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
A.A.Baikov Institute of Metallurgy and Material Science RAS,Moscow,Russia;
Tallinn University,Tallinn,Estonia;
Tallinn University,Tallinn,Estonia;
Institute of Plasma Physics and Laser Microfusion,Warsaw,Poland;
high-temperature plasma; fast ions; nitrogen implantation; nitride phase formation; XRD; SEM;
机译:氮离子和氮等离子体脉冲作用下铁基合金表面层的结构和氮化物相形成的变化
机译:W-1%La_2O_3合金表层结构的影响-高温氘等离子体和快速离子的脉冲通量辐照
机译:通过等离子氮化处理在铁基合金上形成的氮化层的表面分析
机译:金属陶瓷合金结构和表面层改性在其表面的电子离子浆辐射期间
机译:氮化硅钝化层的变化对电子辐照的氮化铝镓/氮化镓HEMT结构的影响。
机译:氮等离子体改性层状石墨氮化物以改善电催化氢的释放
机译:通过脉冲电子束照射在TiC-(Ni-Cr)金属陶瓷合金上形成纳米结构硬化表面层
机译:氮化硅钝化层变化对电子辐照氮化铝镓/氮化镓HEmT结构的影响