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机译:DLC薄膜沉积的直流真空电弧工艺的特点
Strelnitskij V.E.; Aksenov I.I.;
机译:激光诱导大电流脉冲电弧沉积沉积DLC薄膜的微观结构和物理性能
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机译:类金刚石碳(DLC)膜沉积的数学模拟。
机译:直流和射频等离子体射流的大气压等离子体沉积有机硅薄膜
机译:等离子体法沉积DLC膜并进行纳米结构化
机译:脉冲直接电流溅射膜沉积方法及该方法的膜沉积装置
机译:源磁体可改善直流(DC)物理气相沉积(PVD)工艺中的重溅射均匀性
机译:源磁体,用于改善直接电流(DC)物理气相沉积(PVD)过程中的重新均匀性
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