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机译:直接负碳离子束沉积沉积的类金刚石碳(DLC)膜的生长和特性
Univ Ulsan, Sch Mat Sci & Engn, Ulsan 680749, South Korea;
diamond-like carbon; ion bombardment; XRD; SUBPLANTATION MODEL; THIN-FILMS; ENERGY;
机译:直接负碳离子束沉积沉积的类金刚石碳(DLC)膜的生长和特性
机译:磁控溅射型负离子源(MSNIS)沉积的类金刚石碳(DLC)膜的表征
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积的类金刚石碳(DLC)膜的纳米力学和电化学性质
机译:直接金属离子束沉积沉积的氮掺杂金刚石状碳膜的场发射性能
机译:类金刚石碳(DLC)膜沉积的数学模拟。
机译:环境气体和压力在脉冲激光沉积合成硬质类金刚石碳膜的结构中的作用
机译:使用皮秒激光对功能梯度类金刚石碳(DLC)膜进行脉冲激光沉积
机译:四苯基 - 四甲基 - 三硅氧烷(Dow-Corning 704)前驱体蒸发温度对离子束辅助沉积(IBaD)合成的含硅类金刚石碳(si-DLC)涂层性能的影响