首页> 外文会议>第12回生産加工·工作機械部門講演会「生産と加工に関する学術講演会2018」 >光放射圧ポテンシャルに基づく3次元微細構造加工に関する基礎的研究: ナノ粒子の2次元局所化性能評価
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光放射圧ポテンシャルに基づく3次元微細構造加工に関する基礎的研究: ナノ粒子の2次元局所化性能評価

机译:基于光辐射压力势的3D微结构基础研究:纳米粒子的2D定位性能评估

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摘要

微細デバイスや次世代機能部品製造のために必要とされている3次元微細構造の加工技術が求められている。例えば、光学迷彩やスーパーレンズへの応用が期待されているメタマテリアルの創成には数十nmの金属構造で人工誘電体を構成する必要がある。二光子還元法や集束イオンビームなど集光ビームを用いた微細構造加工法がいくつか研究されていた。しかし、100 nm以下の加工分解能を持ち、かつ3次元的に微細構造を加工することの両立は現状どちらの既存技術でも困難である。また、多くの既存手法は溶液中の加工法であり、加工部品を気中に取り出す際、溶液乾燥時の表面張力で構造が崩壊したり変形したりしやすい問題を持つ。
机译:需要用于三维精细结构的加工技术,这是制造精细器件和下一代功能部件所必需的。例如,为了产生预期将应用于光学迷彩和超级镜片的超材料,必须构造具有几十纳米金属结构的人造电介质。对于使用聚焦束的微结构处理方法已经进行了一些研究,例如双光子还原法和聚焦离子束。然而,两种现有技术都难以同时具有100nm以下的处理分辨率和对精细结构进行三维处理。另外,许多现有方法是溶液中的处理方法,并且当将处理后的零件取出到空气中时,存在以下问题:当溶液干燥时,结构可能由于表面张力而塌陷或变形。

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