Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Materiaux et des Interfaces ENSEEG-INP Grenoble BP 75, 1130 rue de la Piscine, FR-38402 St Martin d'Heres, France;
机译:电化学和极化驱动力对LaMnO_3上的价金属掺杂物偏析的依赖性
机译:共晶陶瓷中掺杂剂偏析增强的界面稳定性和离子电导率:Gd偏析在掺杂CeO2 / CoO和CeO2 / NiO界面中的作用
机译:多重掺杂的纳米结构硅酸盐溶胶-凝胶薄膜:掺杂剂的空间偏析,能量转移和距离测量
机译:用于掺杂掺杂掺杂氧化锆陶瓷的掺杂剂偏析的弹性驱动力
机译:氧化钙和氧化钇掺杂的氧化锆陶瓷的体积和界面热力学:纳米晶相稳定性。
机译:使用氧化锆增强硅酸锂陶瓷的全陶瓷局部牙冠的床头制作
机译:弹性和静电驱动力对兰诺3的抗掺杂剂偏析的电化学偏振依赖性
机译:陶瓷中的局部冲击损伤。弹塑性理论对转变增韧氧化锆陶瓷局部冲击损伤的影响。变形增韧氧化锆中的裂纹扩展和分支。