Institute for Automation and Control Processes, 5 Radio St., Vladivostok 690041, Russia,Far Eastern Federal University, 8 Sukhanova St., Vladivostok 690950, Russia;
Sn; Pb; extra adatom; diffusion path; activation energy; density functional calculations; Ge(111)√3×√3;
机译:Ge(111)√3×√31/3 ML Me诱导表面上额外Me原子扩散的DFT模拟
机译:1/3 ML Si(111)√3×√3金属诱导的表面上的额外金属吸附原子表面扩散模拟
机译:Si和Me原子在Si(111)3〜(1/3)×3〜(1/3)-Me表面上的表面扩散的第一原理模拟,Me = Al,Ga,In,Pb
机译:Ag(100)和Ag(111)表面上的银色Adatom扩散的分子动力学描述
机译:用单层C60吸附物在Ag(111)中空位和原子扩散的动力学蒙特卡洛模拟。
机译:CeO2(111)表面上的汞吸附和氧化的机理:DFT研究
机译:Cu(111)和ag(111)表面上Cu吸附原子和二聚体的扩散