Fabrication Process Development for As2S3 Planar Waveguides using Standard Semiconductor Processing

机译：使用标准半导体工艺开发As 2 S 3 平面波导的制造工艺

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We have developed an effective fabrication process for As₂S₃ waveguides. A bottom anti-reflection coating provides a suitable layer to protect the As₂S₃ film from attack by the alkaline developer whilst CHF

机译：我们已经开发出一种有效的As _{2 S _{3 波导制造工艺。底部抗反射涂层提供了合适的层来保护As _{2 S _{3 膜免受碱性显影剂的侵蚀，而CHF}}}}

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来源
《Pervasive Computing and Applications, 2007 2nd International Conference on; Melbourne,Australia》||P.1-3|共3页
会议地点 MelbourneAustralia
作者
Duk-Yong Choi; Madden; S.; Rode; A.; Rongping Wang; Luther-Davies; B.;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工业技术;
关键词
arsenic compounds; optical fabrication; optical planar waveguides; sputter etching; Assub2/subSsub3/sub; alkaline; bottom anti-reflection coating; dry etching; fabrication process; patterning; planar waveguides; plasma chemistry; semiconductor processing;

机译：砷化合物;光学制造;光学平面波导;溅射蚀刻; As _{2 S _{3 ;碱性;底部抗反射涂层;干法蚀刻;制造工艺;构图;平面波导等离子体化学半导体加工;}}

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