DuPont Electronics Imaging, 455 Forest St, Marlboro, MA, USA 01752-4650;
DuPont Electronics Imaging, 455 Forest St, Marlboro, MA, USA 01752-4650;
Department of Chemistry, Texas AM University, College Station, 77843;
Department of Chemistry, Texas AM University, College Station, 77843;
Department of Chemistry, Texas AM University, College Station, 77843;
DuPont Electronics Imaging, 455 Forest St, Marlboro, MA, USA 01752-4650;
机译:使用大规模簇二次离子质谱法了解纳米级的光酸产生剂分布
机译:大规模簇二次离子质谱法对光致抗蚀剂膜的纳米分子分析
机译:使用大规模团簇二次离子质谱法在纳米级上测试分子同质性
机译:了解纳米级的Photoacid发生器分布,使用大规模的簇二次离子质谱法
机译:通过逐事件模式下的大规模簇二次离子质谱进行纳米域分析。
机译:大气压电晕放电电离质谱结合HF发生器对强氢键团簇离子Y-(HF)n(Y = FO2)的碰撞诱导解离
机译:二次离子质谱法测定掺杂剂分布的定量纳米级成像的方法:硅光伏中的应用实例