Wihuri Physical Laboratory;
Department of Physics,University of Turku, FIN-20014 Turku, Finland;
Graduate School of Materials Research, Turku, Finland;
A.F. Ioffe Institute, St. Petersburg, Russia;
机译:激光烧蚀纳米结构靶材制备YBCO薄膜的临界电流高的原因
机译:通过KrF脉冲激光烧蚀制备的YBCO [001]和YBCO [110]超导薄膜中的临界电流各向异性和通量钉扎
机译:YBCO陶瓷靶在薄膜沉积过程中的长期激光烧蚀效应:工艺参数的影响
机译:使用纳米结构靶在激光烧蚀薄ybco膜中的益处
机译:使用皮秒激光脉冲对铝薄膜进行激光诱导的反烧蚀。
机译:使用Femtosecond激光器在YBCO薄膜上制造的微米和亚微米尺寸桥的AFM分析
机译:通过脉冲激光烧蚀He缓冲气氛中的金属靶沉积的纳米结构氧化铕薄膜
机译:通过激光烧蚀形成纹理化的YBCO膜。