National Institute of Materials Physics, P.O.Box MG-7, 077125 Bucharest-Magurele, Romania;
National Institute of Materials Physics, P.O.Box MG-7, 077125 Bucharest-Magurele, Romania;
National Institute of Lasers, Plasma and Radiation Physics, P.O. Box MG-36, 077125 Bucharest-Magurele, Romania;
National Institute of Materials Physics, P.O.Box MG-7, 077125 Bucharest-Magurele, Romania;
National Institute of Materials Physics, P.O.Box MG-7, 077125 Bucharest-Magurele, Romania;
diluted magnetic semiconductors; doped titania; XAFS; XPS; MOKE;
机译:通过脉冲激光烧蚀制备的纳米结构的钒氧化物掺杂钴的薄层:化学,局部原子结构,形态和磁性
机译:通过脉冲激光烧蚀制备的纳米结构的钒氧化物掺杂钴的薄层:化学,局部原子结构,形态和磁性
机译:通过脉冲激光烧蚀制备的纳米结构的钒氧化物掺杂钴的薄层:化学,局部原子结构,形态和磁性
机译:用Fe:化学,局部原子结构和光依赖性磁性脉冲激光共沉积二氧化钛
机译:脉冲激光沉积镍铁氧体薄膜的磁性能和结构
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:通过脉冲激光烧蚀制备的纳米结构的钒氧化物掺杂钴的薄层:化学,局部原子结构,形态和磁性
机译:表面化学,摩擦和磨损性能的未经处理和激光退火表面的脉冲激光沉积Ws(sub 2)涂层