School of Mechanical Engineering Birck Nanotechnology Center, Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA;
School of Mechanical Engineering, Iowa State University, Ames, Iowa 50011, USA;
School of Mechanical Engineering Birck Nanotechnology Center, Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA;
School of Mechanical Engineering Birck Nanotechnology Center, Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA;
Nanoscale patterning; maskless lithography; pattern-on-the-fly; self-assembled monolayers;
机译:扫描热光刻:通过超顺应性探针对光致抗蚀剂进行无掩模的亚微米热化学构图
机译:厘米刻度中的超临界透镜阵列与无掩模UV光刻图案化
机译:通过液体介导的非接触扫描探针光刻,通过液体介导的非接触扫描探头串行制造三维图案蛋白纳米结构的串联制造
机译:使用高速扫描探针阵列可伸缩的纳米结构薄壁图案化
机译:纳米结构作为掺杂剂来源:使用形状和尺寸控制的纳米材料硅的无掩模纳米级图案化
机译:晶圆级以下50nm分辨率的周期性高纵横比Si纳米结构阵列的多功能图案生成
机译:使用多个扫描探针的纳米级图案化和单独的电流控制光刻
机译:扫描探针光刻。 3.在无意添加溶剂或电解质的情况下,纳米级电化学图案化auand有机抗蚀剂