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【24h】

Plasma imaging in the XUV wavelength range (175 A) using curved layered-synthetic-microstructure coated surfaces

机译:使用弯曲的层状合成微结构涂层表面在XUV波长范围(175 A)中进行等离子体成像

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摘要

Abstract: A recently constructed calibration facility utilizing a Manson soft x-ray line source in the wavelength range of 8 - 114 angstroms and a Penning ionization discharge (PID) in the 100 - 350 angstroms range, has been used to map the reflectivity across a curved layered synthetic microstructure (LSM) coated surface. This calibrated mirror was also used to image the Al III emission ($lambda $EQ 170 - 175 angstroms) from the PID. !10
机译:摘要:最近使用的校准设备利用曼森(Manson)软X射线线源在8-114埃的波长范围内和潘宁电离放电(PID)在100-350埃的范围内,用于绘制整个仪器的反射率。弯曲的层状合成微结构(LSM)涂层表面。该校准镜还用于对PID的Al III发射(λ$ EQ 170-175埃)成像。 !10

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