Process Engineering Team, B-FAB, Dongbu-Anam Semiconductor, Dodang-Dong, Wonmi-Gu, Bucheon-City, Kyoungki-Do, 420-712, Korea;
HMDS; solvent; lithography; photo resist; hexamethyldisiloxane (HMDS) prime; bottom anti reflective coating (BARC); PGMEA; adhesion; pattern lifting;
机译:Al-Si溶剂精炼过程中冶金级硅中金属杂质的偏析行为的热力学评估
机译:处理金属锆废物以生产建筑材料。第1部分。“非水有机溶剂-氯”系统中金属锆的溶解研究
机译:基于酯类电池溶剂与金属锂接触:水和醇杂质的影响
机译:金属杂质对红土废液中钴和镍溶剂萃取的影响
机译:结晶过程中的溶剂和杂质影响。
机译:18F-氟氧葡萄糖生产过程中金属杂质的合成质量控制和测定
机译:aTHENa任务spO光刻工艺研究