近接する２波長による並列位相シフトディジタルホログラフィを用いたはhだバンプ計測システム

摘要

電子デバイスの心臓部である半導体チップは，数10m の半球状の金属（バンプ）を用いて接合されるため，製造過程においてバンプ形状，特に高さを計測することが重要である．私たちは数10m の絶対計測が可能な波長差が数nm の近接する2 波長を同時撮像可能なディジタルホログラフィーのための光学系を提案し，バンプ計測に有効であることを確認した1)．本稿ではこのシステムをより産業的な利用に耐えうるように，偏光カメラを用いて並列位相シフトディジタルホログラフィを実装し，解像度を向上させた．また，レーザーの使用で露光時間を短くし，単位時間当たりの計測時間を22 倍に向上させた．