Si/Feターゲッ卜の高圧Arガス中連続発振レーザ一蒸発法によリ形成される SiO_xナノワイヤーにおける2つの成長機構

摘要

連続発振レーザー蒸発法によりSiまたはS1/S1O2混合ターゲッ卜からSi触媒による アモルファス酸ィ匕ケィ素(SiOx)ナノワイヤー(NW)を形成してきた。本研究では、Si/Fe混合ターゲ ットのレーザー蒸発を行うことによりSiOx NWを形成した。雰囲気Arガス圧を変えることで、 FeSi2およびSi触媒によりSiOx NWが成長することを見出した。生成物の詳細な解析を行い、NW の2つの成長機構について比較'検討中である。