かさ高いEind 基を有するヒドロシリレン·NHC 付加体の合成

摘要

我々は、かさ高い縮環型立体保護基（Rind 基）を用いて、低配位構造を有する 14族元素化合物について研究している。以前に、Rind 基を有するジブロモジシレンとN-ヘテロ環状カルベン（NHC）との反応により、「ブロモシリレン·NHC モノ付加体」及び「カチオン性シリレン·NHC ビス付加体」が生成することを報告した1)。今回、Eind 基を有する「ヒドロシリレン·NHC 付加体」を合成し、分子構造をX 線結晶構造解析により決定したので報告する。