Additive 型RtoR 微細配線形成技術にむけた光応答性表面処理材料の開発とイメージング質量分析評価

摘要

電子デバイスの微細配線は真空成膜とフォトレジストを用いたフォトリソグラフィ工程による方法が用いられる。しかしこの方法は大規模な設備·投資額を必要とし、多くの工数·材料を必要とするSubtractive 型生産技術であるため、コストや環境負荷の点で課題が指摘されている。