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光デバイスのリフロー実装実現に向けた高耐熱光接続技術の検討

机译:用于实现光学装置反射实现的高热耐光连接技术的检查

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摘要

BGA パッケージ上に搭載され、リフロー実装可能な光 デバイスの実現に向けて、高耐熱接着剤の光ファイバ接 続への適用を検討し、リフロー工程に相当する260°C加熱 による接続損失変化を0.1 dB 以下に抑える高耐熱光ファ イバ接続を実証した。今後は本接続技術を実デバイスに 適用し、実際のリフロー工程との整合性の実証と、BGA 形態の次世代光デバイスの実現をめざす。
机译:为了实现回流式光学装置,可以考虑高耐热粘合剂的施加,并且由于对应于回流工艺的260℃加热而导致的连接损耗变化为0.1。高温证明了耐受抑制到DB或更低的电阻纤维连接。将来,该连接技术应用于真实装置,并且通过BGA形式中的下一代光学装置实现了与实际回流过程的完整性的演示。

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