Sol-gel; Double-layered thin films; Ferroelectricity property;
机译:在Pt / Ti / SiO_2 / Si上的铁电Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)/ BiFeO_3 / Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)三层薄膜的微结构和电性能
机译:Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3 /(Bi_(3.15)Nd_(0.85))Ti_3O_(12)双层薄膜的铁电和疲劳行为
机译:具有LaNiO_3缓冲层的Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)薄膜的铁电性能和残余应力分析
机译:Bi_(3.15)ND_(0.85)TI_3O_(12)缓冲层对Bi_(0.94)CE_(0.06)FE_(0.03)TI_(0.03)O_3薄膜的结构和电性能的影响
机译:镧镍氧化物电极上MOCVD衍生的钙钛矿铅锆(x)钛(1-x)氧(3)和铅(scan钽)(1-x)钛(x)氧(3)薄膜的微观结构和电性能缓冲硅
机译:SrTiO3缓冲层对化学法制备Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜结构和电学性能的影响