( 15-0435) 高速重イオン照射に誘起されたMgAl2O4 中不規則配列のXAFS 構造解析

摘要

スピネル型構造AB2O4（A:2 価元素，B:3 価元素）は，多様な機能性を発現することから活発な研究·開発が行われている．最も基本的なスピネルであるMgAl2O4 は、低温域ではMg が4 配位，Al が6 配位を占める正スピネル構造であるが，高温域では，一部のMg とAl がサイト交換をする不規則配列を生じることが知られている．このような不規則配列はスピネル化合物の機能性に密接に関係するため，その制御は材料設計上重要である．一方，セラミックスに高速重イオンを照射すると，高密度電子励起の付与により材料に多様な変化をもたらすことから，物質改質の手段に用いられている．本研究では，高速重イオンを照射したMgAl2O4 に誘起された局所状態の変化をX 線吸収分光（XAFS）法により観察した．さらに密度汎関数理論に基づく計算スペクトルから実験の解析を行った．