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Prozessoptimierung mittels Fine-Placer fur die Planarisierung der Topographie eingebetteter Chips in Polymerfolien

机译:使用精细砂矿进行处理优化,用于聚合物膜中地形嵌入芯片的平坦化

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摘要

Unter Hybriden Systemen in Folie (HySiF) versteht man die Integration von ultradunnen Chips, beispielsweise Mikrokontroller in Kombination mit anderen elektronischen Komponenten wie Sensoren und Antennen in Polymerfolie. Das gesamte System ist mechanisch flexibel, und daher eignen sich HySiF hervorragend fur die nachste Generation von Anwendungen im Bereich der flexiblen Elektronik. Die Chip-Film-Patch (CFP) Technologie ist fur die Realisierung von HySiF speziell entwickelt worden. Diese Wafer-Level Prozessierung bietet die Moglichkeit, auf CMOS-kompatiblen Anlagen die Prozessierung durchzufuhren und so kleine Padgrossen (bis etwa 10 μm) zu kontaktieren. Der Prozessschritt Chip-Platzierung wurde mit Hilfe eines Fineplacer (Femo2, Finetech) weiterentwickelt. Die Ergebnisse einer Untersuchung zur topografischen Planarisierung und Charakterisierung eingebetteter Chips werden vorgestellt. Es wird gezeigt, dass das Einbetten mittels Spin-Coating Prozessen auf den in Kavitaten platzierten Chips einen konformen Polymerfilm erzeugt, wenn die Kavitatstiefe und Breite optimal definiert sind.
机译:下在箔(HysiF)的混合系统中,ultradun芯片的集成理解,例如微控制器与其他电子元件,如在聚合物薄膜传感器和天线组合。整个系统是机械柔性的,因此Hyssif是理想的下一代在柔性电子领域中的应用。该芯片电影贴片(CFP)技术,为实现HySIF的专门设计。该晶片级处理提供使用CMOS兼容的系统的处理和接触小垫(10μm以下)的可能性。该过程步骤芯片放置已使用FINEPLACER(FEMO2,FINETECH)得到了进一步发展。地形平坦化和嵌入式芯片特性调查的结果。结果表明,通过在cavitete放置芯片旋涂过程的装置嵌入生成当cavitete深度和宽度被最佳限定的柔性聚合物膜。

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