Untersuchung des Temperatureinflusses auf den spezifischen elektrischen Widerstand von nanokristallinem Nickel und rontgenamorphem Nickel-Phosphor

摘要

In dieser Arbeit wird sowohl fur nanokristalline Nickel- als auch fur rontgenamorphe Nickel-Phosphor-Schichten der Temperatureinfluss auf den spezifischen elektrischen Widerstand analysiert. Wahrend nanokristalliner Nickel mit einer Korngrosse von 38 nm bei Raumtemperatur einen spezifischen elektrischen Widerstand von 14,2 μΩ cm aufweist, steigt er bei einer Temperatur von 523 K auf 28,2 μΩ cm. Rontgenamorpher Nickel-Phosphor zeigt mit 158 μΩ cm einen um eine Grossenordnung grosseren Widerstand, der sich mit der Temperaturzunahme nicht merklich andert. Die Auslagerung fur vier Stunden bei 523 K fuhrt bei nanokristallinem Nickel zu einem Wachstum der Kristallitgrosse auf 60 nm und damit verbunden zu einer Abnahme des spezifischen elektrischen Widerstands auf 10,1 μΩ cm. Nickel-Phosphor zeigt keine in der Rontgendiffrakometrie erkennbare Anderung der Mikrostruktur. Der Widerstand sinkt dennoch auf 142 μΩ cm.