超音速フリージェットPVDによるオキシフッ化イットリウム膜の特性評価

摘要

半導体製造過程ではプラズマエッチング技術が多用されており，プラズマ腐食による装置内壁や部材の損傷を防ぐため耐プラズマ性を有するイットリア（Y_2O_3）皮膜が保護膜として用いられている．しかし，近年適用されてきているフッ素系ガスによる高密度プラズマの保護では，Y_2O_3膜を超える優れたプラズマ耐食性を示す新素材の模索が検討されてきている．オキシフッ化イットリウム（YOF，Y_5O_4F_7）はフッ素系ガスに対して安定であるため，フッ素系ガスによるプラズマ腐食に対する保護材料として注目されてきている．