tungsten carbide; binary/ternary/quaternary composition; magnetron sputtering; roughness; grain size; electrical conduction.;
机译:直流磁控溅射沉积耐磨碳化钨薄膜及其表征
机译:射频磁控溅射二元硫化物靶单步制备Cu2ZnSnSe4薄膜。
机译:磁控溅射制备纳米碳化钨薄膜及其电催化还原PNP的性能
机译:基于碳化钨,三元和四元组成的薄膜通过磁控溅射获得
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:R.F.磁控溅射碳化钨薄膜