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アルミ磁気ディスク基板のポリシング特性に及ぼすポリシャ表面構造の影響(第3報)-ポリシャ表面バフの影響

机译:波多表面结构对铝磁盘基板(第3次报告)对策的影响 - Polysha表面Buff的影响

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摘要

ハードディスクに使用される磁気ディスク基板に求められている品質特性の中で,平滑性と端部形状は重要な評価パラメ-タ-である.平滑性は,基板表面の表面粗さやうねりで評価される.また,端部形状は基板端面のダレ状態を表すロールオフで評価される.一般にポリシング初期においては,ポリシャ表面が不均一のため,うねりやロールオフが満足する範囲内にならず,立ち上がりにダミーポリシングが行われる.筆者等は,先に,磁気ディスク基板のポリシング特性に及ぼすポリシャ表面構造の影響について,バフ工程条件の影響を検討した.本研究では,引き続き,ポリシャ表面構造をポリシャのバフ工程を行ったスエードタイプと,バフ工程を行わない,いわゆるノンバフタイプのポリシャについて,磁気ディスク基板のポリシングにおけるポリシング基板除去速度と基板うねり等のポリシング特性を検討した.以下に結果を報告する.
机译:在用于硬盘的磁盘基板所需的质量特性中,平滑度和末端形状是重要的评估参数。通过表面粗糙度和基板表面的柔性来评估平滑度。而且,在表示衬底端面的抖动状态的滚动处评估末端形状。通常,在早期抛光中,波隆表面不均匀,因此它不会落在满足波纹或升降的范围内,并且在上升上执行虚拟警务。作者等首先检查了BUFF工艺条件对Polysha表面结构对磁盘基板抛光特性的影响的影响。在这项研究中,我们随后继续成为绒面革类型,该绒面革类型执行Polysha表面结构和所谓的非VAF型Polysha,其不执行缓冲过程,以及在抛光中消除速度的变速衬底和基板波纹磁盘基板。检查了警务特征。结果是下面的。

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