定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第12報）－任意位相変調を実現する顕微観察装置の開発

摘要

一般的に再構成型超解像アルゴリズムは逐次再構成との親和性からインコヒーレント結像を前提としているためコヒーレント結像への適用が困難であり，取得像としてインコヒーレント結像が望まれる．一万本手法では，照明として定在波照明を用いているためコヒーレント結像系となっており，この結像系の違いが問題となっていた．そこで本研究はコヒーレント結像からインコヒーレント結像へと近づける一つの手法として，散乱光のコヒーレント結像に対し位相変調をかけ等価的にインコヒーレント結像に近づけることができる位相変調合成を用いることで，再構成アルゴリズムへの最適化を目的とする．前報では，コヒーレント環境下での適用に向け，空間位相変調を施した像を複数取得し合成する画像取得手法の検討を行った［2］．本報では，任意位相変調の実現に向け，空間光位相変調器（SLM：Spatial Light Modulator）を用いた顕微観察装置の開発を行ったので報告する．