BST thin films; dielectrics; sputtering;
机译:射频磁控溅射沉积Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜的高介电可调性
机译:沉积温度对射频磁控溅射沉积Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜的微观结构和介电性能的影响
机译:K掺杂对射频磁控溅射制备Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜介电和可调谐性能的影响
机译:通过射频磁控溅射沉积的BA_(0.6)SR_(0.4)SR_(0.4)TiO3薄膜的介电可调性
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:射频磁控溅射sr0.4Ba0.6Nb1.85Ta0.15O6薄膜的性能