対向ターゲットスパッタリング法によるITO膜の作製と評価

摘要

本研究では、通常のマグネトロンスパッタリング法に比べ広範囲の圧力で成膜することができるという特徴がある対向ターゲットスパッタリング法を用いて、成膜圧力が膜特性·物性、透過率·抵抗率に及ぼす影響をITO （In_2O_3-SnO_2）系薄膜について調べる。