Fugenverfolgung mit dem Elektronenstrahl: offline und online - ein wichtiges Werkzeug zur Schweissautomatisierung

摘要

In der Elektronenmikroskopie wird der Elektronenstrahl zur Bildgebung kleinster Strukturen verwendet. Ausgenutzt wird hierbei, dass der Ruckstreuwinkel der an dem Werkstuck reflektierten Elektronen stark von dessen Oberflachenstruktur abhangt. In Anlagen zum Elektronenstrahlschweissen wird dieses Verfahren oft zur Bildgebung eingesetzt. Die Vorteile gegenuber lichtoptischen Einblicken, wie Fernrohr oder CCD-Kamera, sind die deutlich bessere Tiefenscharfe und die nicht notwendige Ausleuchtung der Werkstuckoberflache. Die Qualitat dieser Bilder ist ausreichend um ublicherweise verwendete Fugenformen aufzulosen. Fur einige Schweissaufgaben wird in Elektronenstrahlschweissanlagen der Elektronenstrahl schon heute zur Fugensuche eingesetzt. Dabei muss nicht ein komplettes Bild der Oberflache erstellt werden. Das Signal der ruckgestreuten Elektronen einer einzeiligen Ablenkung senkrecht zur Fuge ist ausreichend. Anhand der Signalanderung, die sich ergibt, wenn der Strahl an der Fuge unterschiedlich reflektiert wird, kann die Fugenposition ermittelt werden.