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TFT-LCD Display Quality Improvement by the Adjustment of Gate Line Structure

机译:TFT-LCD通过调整栅极线结构显示质量改进

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摘要

Too high stress of the bottom Mo layer of the gate line is thought to be the main reason for H-line mura. H-Line mura is eliminated effectively by changing the gate line metal structure from Mo/AlNd/Mo to AlNd/Mo. The new structure does not influence the panel's electrical characteristics.
机译:栅极线底部Mo层的应力太高被认为是H-Line Mura的主要原因。通过将栅极线金属结构从Mo / AlnD / Mo改变为AlnD / Mo,有效地消除了H-Line Mura。新结构不会影响面板的电气特性。

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