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A Method for Constructing An Efficient Basis for Trace Calculation

机译:一种用于构建痕量计算的有效依据的方法

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摘要

Self-dual normal basis is efficient for the arithmetic operations in extension field and especially trace calculation. However, self-dual normal bases do not exist in F_(p~m) when characteristic p is odd and degree m is even. This paper proposes a method to construct a normal basis of even degree that is efficient for trace calculation.
机译:自我双重正常基础对于扩展字段中的算术运算以及尤其是跟踪计算有效。然而,当特性P是奇数并且程度M是偶数时,在F_(P〜M)中,自我双重正常碱基不存在。本文提出了一种构建甚至程度的正常基础的方法,即痕量计算。

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