机译:紫外线照射下乙烯丙烯二烯单体三元共聚物的光关联
机译:紫外线杀菌照射下抑制细胞生长药物的直接和间接光降解途径:过程动力学以及水基质种类和氧化剂剂量的影响
机译:紫外线杀菌照射下抑制细胞生长的药物的直接和间接光降解途径:水动力学和水剂量和氧化剂剂量的影响(第324卷,第481页,2016年)
机译:用于电子照相IV的可光降解的调色剂。用于加速光降解的最佳三元共聚物组合物和UV照射条件,并抑制基质树脂的光敏
机译:用于电子照相素III的可光降解的调色剂。基质树脂的加速光降解和抑制了基质树脂的光电解 - 它们对聚合物组合物,UV光源和照射条件的依赖性